真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

工藝

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。

在對塑料制品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調(diào)整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。

鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

特點

1> 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄 - 一般為0.01~0.1um,能夠嚴格復制出啤件表面的形狀

2> 工作電壓不是很高 - 200V﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒

3> 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒

4> 只限于比鎢絲熔點低的金屬 - 如鋁﹑銀﹑銅﹑金等鍍飾﹒

5> 對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷﹒

6> 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等